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[GB/T 31379-2015] 平板显示器(FPD)偏光膜试验方法[现行]

发布时间:2015-02-04 实施时间:2015-10-01

本标准规定了平板显示器偏光膜外观(点缺陷、线缺陷、尺寸、厚度、翘曲度)、光学性能(单体透过率、平行透..

[GB/T 11446.1-2013] 电子级水[现行]

发布时间:2013-12-31 实施时间:2014-08-15

GB/T11446的本部分规定了电子级水的级别、技术指标要求、试验方法和检验规则。本部分适用于电子和..

[GB/T 11446.10-2013] 电子级水中细菌总数的滤膜培养测试方法[现行]

发布时间:2013-12-31 实施时间:2014-08-15

GB/T11446的本部分规定了电子级水中细菌总数(活菌)的滤膜培养测试方法。本部分适用于EW-Ⅰ~..

[GB/T 11446.3-2013] 电子级水测试方法通则[现行]

发布时间:2013-12-31 实施时间:2014-08-15

GB/T11446的本部分规定了电子级水的采样、贮存与运输及报告的格式。本部分适用于EW-Ⅰ~EW-..

[GB/T 11446.4-2013] 电子级水电阻率的测试方法[现行]

发布时间:2013-12-31 实施时间:2014-08-15

本标准规定了电子级水的电阻率的测试方法。 本标准适用于电子级水电阻率测试。

[GB/T 11446.5-2013] 电子级水中痕量金属的原子吸收分光光度测试方法[现行]

发布时间:2013-12-31 实施时间:2014-08-15

GB/T11446的本部分规定了无火焰(或火焰)原子吸收分光光度计测定电子级水中痕量金属铜、锌、镍、..

[GB/T 11446.6-2013] 电子级水中二氧化硅的分光光度测试方法[现行]

发布时间:2013-12-31 实施时间:2014-08-15

本标准规定了电子级水中二氧化硅的分光光度测试方法。 本标准适用于电子级水中二氧化硅的测定,其中检出限..

[GB/T 11446.7-2013] 电子级水中痕量阴离子的离子色谱测试方法[现行]

发布时间:2013-12-31 实施时间:2014-08-15

GB/T11446的本部分规定了电子级水中痕量氟离子(F- )、氯离子(Cl- )、亚硝酸根离子(N..

[GB/T 11446.8-2013] 电子级水中总有机碳的测试方法[现行]

发布时间:2013-12-31 实施时间:2014-08-15

GB/T11446的本部分规定了电子级水中总有机碳的测试方法。本部分适用于电子级水中总有机碳的测定。

[GB/T 11446.9-2013] 电子级水中微粒的仪器测试方法[现行]

发布时间:2013-12-31 实施时间:2014-08-15

GB/T11446的本部分规定了电子级水中微粒的仪器测定方法。本部分适用于电子级水中微粒的连续式或单..

[GB/T 14619-2013] 厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片[现行]

发布时间:2013-11-12 实施时间:2014-04-15

本标准规定了厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片的要求、测试方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本 标准..

[GB/T 14620-2013] 薄膜集成电路用氧化铝陶瓷基片[现行]

发布时间:2013-11-12 实施时间:2014-04-15

本标准规定了薄膜集成电路用氧化铝陶瓷基片的要求、测试方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本标准适..

[GB/T 29844-2013] 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范[现行]

发布时间:2013-11-12 实施时间:2014-04-15

本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计..

[GB/T 29846-2013] 印制板用光成像耐电镀抗蚀剂[现行]

发布时间:2013-11-12 实施时间:2014-04-15

本标准规定了印制板用光成像耐电镀抗蚀剂的术语和定义、性能、试验方法、检验规则和包装。本标准适用于印制..

[GB/T 29847-2013] 印制板用铜箔试验方法[现行]

发布时间:2013-11-12 实施时间:2014-04-15

本标准规定了印制板用铜箔外观、尺寸、物理性能、工艺性能及其他性能的试验方法。本标准适用于刚性及挠性印..

[GB/T 29848-2013] 光伏组件封装用乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)胶膜[已作废]

发布时间:2013-11-12 实施时间:2014-04-15

本标准规定了光伏组件封装用乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)胶膜的术语和定义、要求、试验方法、检验规则..

[GB/T 29056-2012] 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法[现行]

发布时间:2012-12-31 实施时间:2013-10-01

本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷..

[GB/T 28858-2012] 电子元器件用酚醛包封料[现行]

发布时间:2012-11-05 实施时间:2013-02-15

[GB/T 28859-2012] 电子元器件用环氧粉末包封料[现行]

发布时间:2012-11-05 实施时间:2013-02-15

[GB/T 28159-2011] 电子级磷酸[现行]

发布时间:2011-12-30 实施时间:2012-07-01

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