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用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范 现行
Specifications for metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
标准号：GB/T 29844-2013
基本信息
标准号：GB/T 29844-2013
发布时间：2013-11-12
实施时间：2014-04-15
首发日期：
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：王雷、伍强、朱骏、陈宝钦
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 电子技术专用材料
ICS分类：
31.030
提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
起草单位：上海华虹NEC电子有限公司
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
标准简介
本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计规则,这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量,适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
标准摘要
|
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。 请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。 本标准起草单位:上海华虹NEC电子有限公司。 本标准主要起草人:王雷、伍强、朱骏、陈宝钦。 |
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