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砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法现行

Test method for sub-surface damege of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction

标准号：SJ 20714-1998

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基本信息

标准号：SJ 20714-1998

发布时间：1998-03-18

实施时间：1998-05-01

首发日期：

出版单位：电子工业出版社查看详情>

起草人：张世敏、郝建民、段曙光

出版机构：电子工业出版社

标准分类： >>>>L5971

起草单位：电子工业部第四十六研究所

归口单位：中国电子技术标准化研究所

发布部门：中华人民共和国电子工业部

标准简介

本规范规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。本规范适用于经过化学、机械单面和双面抛光的砷化镓抛光片亚损伤层的定性测量。

替代情况

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引用标准

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砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法 现行