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硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法已作废

Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers

标准号：GB/T 4058-1995

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基本信息

标准号：GB/T 4058-1995

发布时间：1995-04-18

实施时间：1995-01-02

首发日期：1983-12-20

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：

作废日期：2010-06-01

出版机构：中国标准出版社

标准分类：金属无损检验方法

ICS分类：金属材料化学分析

起草单位：峨嵋半导体材料厂

归口单位：全国半导体材料和设备标准化技术委员会

发布部门：国家技术监督局

主管部门：国家标准化管理委员会

标准简介

本标准规定了硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法。本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中诱生或增强的晶体缺陷的检测。

替代情况

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