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硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法

The method of determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption
标准号:GB/T 1557-2006
基本信息
标准号:GB/T 1557-2006
发布时间:2006-07-18
实施时间:2006-11-01
首发日期:
出版单位:中国标准出版社查看详情>
起草人:梁红、覃锐兵、王炎
作废日期:2019-06-01
出版机构:中国标准出版社
标准分类: 金属物理性能试验方法
ICS分类:金属材料化学分析
提出单位:中国有色金属工业协会
起草单位:峨眉半导体材料厂
归口单位:全国有色金属标准化技术委员会
发布部门:中华人民共和国质量监督检验检疫总局和国家标准化管理委员会
主管部门:中国有色金属工业协会
标准简介
本标准规定了采用红外光谱法测定硅单晶中的间隙氧含量的方法。本标准适用于室外温电阻率大于0.1Ω·cm的n型硅单晶和室温电阻率大于0.5Ω·cm中间的p型硅单晶中间隙氧含量的测量。本标准测量氧含量的有效范围从1×1016at·cm-3到硅中间隙氧的最大固熔度。
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