电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南 现行
Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
标准号：YS/T 935-2013
基本信息
标准号：YS/T 935-2013
发布时间：2013-10-17
实施时间：2014-03-01
首发日期：
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：张涛、何金江、丁照崇、万小勇、徐建卫、廖赞、尚再艳、王欣平、熊晓东、吕保国
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 贵金属及其合金
ICS分类：其他有色金属产品
起草单位：有研亿金新材料股份有限公司
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
主管部门：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
标准简介
本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。
标准摘要
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本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本标准参照了ASTMF2113-01(2011)《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量的分析及报告标准指南》。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。 本标准起草单位:有研亿金新材料股份有限公司。 本标准主要起草人:张涛、何金江、丁照崇、万小勇、徐建卫、廖赞、尚再艳、王欣平、熊晓东、吕保国。 |
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