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硅抛光片和外延片表面质量光反射测试方法

Test method for the surface quality of polished silicon wafers and epitaxial wafers by optical-reflection
标准号:GB/T 17169-1997
基本信息
标准号:GB/T 17169-1997
发布时间:1997-01-02
实施时间:1998-08-01
首发日期:1997-12-22
出版单位:中国标准出版社查看详情>
起草人:
作废日期:2005-10-14
出版机构:中国标准出版社
标准分类: 金相检验方法
ICS分类:半导体材料
起草单位:南开大学,天津市半导体材料厂
归口单位:全国半导体材料和设备标准化技术委员会
发布部门:国家技术监督局
主管部门:国家标准化管理委员会
标准简介
本标准规定了半导体硅抛光片和外延片表面常见缺陷的光反射无损检验方法。本标准适用于半导体硅抛光片和外延片表面质量的无损检验。本标准的检验结果与GB/T 6624、GB/T 14142的检验结果一致。
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