工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定素含量 已作废
Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
标准号：GB/T 14849.4-2008
基本信息
标准号：GB/T 14849.4-2008
发布时间：2008-06-09
实施时间：2008-12-01
首发日期：2008-06-09
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：李跃平、石磊、张树朝、张洁、吴豫强、周兵等
作废日期：2015-08-01
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：铝和铝合金
提出单位：中国有色金属工业协会
起草单位：中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门：中国有色金属工业协会
标准简介
GB/T 14849《工业硅化学分析方法》分为四部分，本部分为第４部分。本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分也适用于以上其含量的测定。
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