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平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶现行

Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating

标准号：YS/T 718-2009

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基本信息

标准号：YS/T 718-2009

发布时间：2009-12-04

实施时间：2010-06-01

首发日期：

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：汪锦瑞、宋谋通、郭大鹏、李娟、林秀英、吴亚辉

出版机构：中国标准出版社

标准分类：稀有高熔点金属及其化合物

ICS分类：其他有色金属产品

提出单位：全国有色金属标准化技术委员会

起草单位：金川集团有限公司

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会

发布部门：中华人民共和国工业和信息化部

主管部门：全国有色金属标准化技术委员会

标准简介

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。

标准摘要

本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口.
本标准起草单位:金川集团有限公司.
本标准主要起草人:汪锦瑞、宋谋通、郭大鹏、李娟、林秀英、吴亚辉.

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