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真空镀膜设备通用技术条件
真空镀膜设备通用技术条件 现行
Vacuum coating plant generic specification
标准号：GB/T 11164-2011
基本信息
标准号：GB/T 11164-2011
发布时间：2011-11-21
实施时间：2012-06-01
首发日期：1989-03-31
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：陈月增、谢钧荣、范立群、孙凯、温发兰、靳毅、刘强、惠进德、王学智
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 链传动、皮带传动与键联结
ICS分类：真空技术
提出单位：中国机械工业联合会
起草单位：北京北仪创新真空技术有限责任公司、上海曙光机械制造厂有限公司、兰州真空设备有限责任公司、成都南光机器有限公司等
归口单位：全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC 18)
发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门：全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC 18)
标准简介
本标准规定了真空镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。本标准适用于压力在10-5 Pa~10-3 Pa范围的真空蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备。
标准摘要
|
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本标准代替GB/T11164—1999《真空镀膜设备通用技术条件》,与GB/T11164—1999相比主要变化如下: ———为使用方便增加了目次; ———修改了GB/T11164—1999中真空镀膜设备的压力范围,由10-4 Pa~10-3 Pa修改为10-5 Pa~10-3Pa; ———修改了GB/T11164—1999表1中镀膜室尺寸分档,增加了300、400、450、1100、1350、2200、2400、2500、2600、3200十档尺寸,并对带“*”号尺寸优先选用进行了调整; ———修改了GB/T11164—1999表1中镀膜设备的分档,增加了C档镀膜设备,并增加或修改了各档镀膜设备的极限压力、抽气时间及升压率指标; ———因GB/T11164—1999中部分规范性引用文件已修订,故本标准引用现行标准; ———修改了GB/T11164—1999的4.4.6,用表格的方式规定了设备配套的电器装置中各电气回路的绝缘电阻值; ———修改了GB/T11164—1999的4.5.4及4.5.12,增加了安全防护内容。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC18)归口。 本标准负责起草单位:北京北仪创新真空技术有限责任公司。 本标准参加起草单位:上海曙光机械制造厂有限公司、兰州真空设备有限责任公司、成都南光机器有限公司、中国航天科技集团第五研究院第510研究所、上海惠丰石油化工有限公司、沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人:陈月增、谢钧荣、范立群、孙凯、温发兰、靳毅、刘强、惠进德、王学智。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为: ———GB/T11164—1989、GB/T11164—1999。 |
标准目录
| 前言 Ⅰ 1 范围 1 2 规范性引用文件 1 3 术语和定义 1 4 技术要求 2 5 试验方法 4 6 检验规则 5 7 标志、包装、运输、贮存 5 |
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