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电子工业用气体硅烷(SiH4) 已作废

Gas for electronic industry—Silane

标准号：GB/T 15909-2009

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基本信息

标准号：GB/T 15909-2009

发布时间：2009-10-30

实施时间：2010-05-01

首发日期：1995-12-20

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：余京松、周鹏云

作废日期：2017-12-01

出版机构：中国标准出版社

标准分类：工业气体与化学气体

ICS分类：工业气体

提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位：浙江大学材化学院半导体材料研究所、西南化工研究设计院

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会

发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

主管部门：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

标准简介

本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。

标准摘要

本标准代替GB/T15909-1995《电子工业用气体硅烷》。
本标准与GB/T15909-1995相比主要变化如下:
---修改规范性引用文件(GB/T15909-1995的第2章,本版的第2章);
---修改技术指标内容:增加一类产品纯度和杂质含量,用Cl- 表示氯化物总量(GB/T15909-
1995的3.1,本版的3.1);
---修改电性能规格(GB/T15909-1995的3.2,本版的3.3);
---增加硅烷的采样安全要求(见4.1.2);
---增加对硅烷尾气处理的要求(见4.3);
---修改一氧化碳、二氧化碳、氧和氮含量的测定(GB/T15909-1995的4.2、4.6,本版的4.4);
---修改测定氯化物含量所用试剂和溶液的内容(GB/T15909-1995的4.3.4,本版的4.5.4);
---修改测定氯化物含量结果处理公式(GB/T15909-1995的4.3.6,本版的4.5.6);
---增加其他方法测定氯化物含量(见4.5.7);
---修改烃(C1~C3)含量的测定(GB/T15909-1995的4.4,本版的4.6);
---增加其他方法测定氢含量(见4.7.6);
---增加其他方法测定水含量(见4.8);
---增加微量甲硅醚,乙硅烷和甲基硅烷含量的测定(见4.9);
---增加金属离子含量的测定(见4.10);
---修改标志、包装、贮运及安全(GB/T15909-1995的第5章,本版的第5章)。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会归口。
本标准起草单位:浙江大学材化学院半导体材料研究所、西南化工研究设计院。
本标准主要起草人:余京松、周鹏云。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
---GB/T15909-1995。

替代情况

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引用标准

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采标情况

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