当前位置： 首页 > 电子工业用气体三氟化硼

电子工业用气体三氟化硼现行

Gases for electronic industry—Boron trifluoride

标准号：GB/T 14603-2009

获取原文如何获取原文？问客服获取原文，即可享受本标准状态变更提醒服务！

基本信息

标准号：GB/T 14603-2009

发布时间：2009-10-30

实施时间：2010-05-01

首发日期：1993-08-26

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：邓建平、倪志强、孙福楠、周鹏云

出版机构：中国标准出版社

标准分类：工业气体与化学气体

ICS分类：工业气体

提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位：核工业理化工程研究院、大连光明化工研究院、西南化工研究设计院

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分技术委员会

发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

主管部门：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

标准简介

本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮运及安全要求。本标准适用于以氟气和硼单质为原料,采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼;和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。

标准摘要

本标准代替GB/T14603-1993《电子工业用气体三氟化硼》。
本标准与GB/T14603-1993相比主要区别如下:
---修改三氟化硼的适用范围(GB/T14603-1993的第1章,本版的第1章);
---修改规范性引用文件(GB/T14603-1993的第2章,本版的第2章);
---修改三氟化硼的技术指标内容(GB/T14603-1993的第3章,本版的第3章);
---增加三氟化硼采样安全要求(本版的4.1.2);
---修改氮、氧(氩)含量的分析方法(GB/T14603-1993的4.2,本版的4.3);
---修改二氧化硫含量的分析方法(GB/T14603-1993的4.2,本版的4.6);
---增加二氧化碳、四氟化碳含量的分析方法(见本版的4.3);
---修改标志、包装、贮运及安全(GB/T14603-1993的第6章、第7章,本版的第5章);
---增加资料性附录A,并把测定三氟化硼中的氮、氧(氩)、二氧化碳和四氟化碳含量的色谱切割流程图写入该附录(见附录A)。
本标准的附录A 为资料性附录。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分技术委员会归口。
本标准起草单位:核工业理化工程研究院、大连光明化工研究院、西南化工研究设计院。
本标准主要起草人:邓建平、倪志强、孙福楠、周鹏云。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
---GB/T14603-1993。

替代情况

会员注册/登录后查看详情

引用标准

会员注册/登录后查看详情

本标准相关公告

会员注册/登录后查看详情

采标情况

会员注册/登录后查看详情

推荐检测机构

申请入驻

暂未检测到相关机构，邀您申请入驻~

推荐认证机构

申请入驻

暂未检测到相关机构，邀您申请入驻~

推荐培训机构

申请入驻

暂未检测到相关机构，邀您申请入驻~

电子工业用气体 三氟化硼 现行

申请获取原文权限

电子工业用气体三氟化硼现行