
Gas for electronic industry—Ammonia
标准号:GB/T 14601-2009
基本信息
标准号:GB/T 14601-2009
发布时间:2009-10-30
实施时间:2010-05-01
首发日期:1993-08-26
出版单位:中国标准出版社查看详情>
起草人:孙福楠、刘泽军、付永成、谢国清、周鹏云
出版机构:中国标准出版社
标准分类: 工业气体与化学气体
ICS分类:工业气体
提出单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
起草单位:大连光明化工研究院、中国西南油气田成都天然气化工总厂、武汉市鼎立化工有限责任公司、西南化工研究设计院
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
标准简介
本标准规定了氨的技术要求,试验方法,检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。本标准适用于半导体工业,氮化硅、氮化镓的化学气相淀积,也可用于硅或氧化硅的氮化。
标准摘要
本标准代替GB/T14601-1993《电子工业用气体 氨》。 本标准与GB/T14601-1993相比主要变化如下: ---修改标准的名称; ---修改适用范围(GB/T14601-1993的第1章,本版的第1章); ---修改规范性引用文件(GB/T14601-1993的第2章,本版的第2章); ---修改技术指标内容(GB/T14601-1993的第3章,本版的第3章); ---增加对氨尾气处理的要求(见4.3); ---删去按GB5831规定的方法测定氧含量(GB/T14601-1993的4.2.1); ---修改氧、氮、一氧化碳含量的测定(GB/T14601-1993的4.2、4.3、4.4,本版的4.4); ---增加氢、氩含量的测定(见4.4); ---增加二氧化碳含量的测定(见4.4); ---修改烃含量的测定(GB/T14601-1993的4.5,本版的4.4); ---修改水含量的测定方法(GB/T14601-1993的4.6,本版的4.5); ---增加金属离子的测定方法(见4.6); ---修改标志、包装、贮运及安全(GB/T14601-1993的第6章、第7章,本版的第5章); ---增加规范性附录A,并把采用氦放电离子化气相色谱法测定氨中的氢、氧(氩)、氮、一氧化碳、 二氧化碳和烃(C1~C3)含量组分的方法写入该附录(见附录A)。 本标准的附录A 为规范性附录。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会归口。 本标准起草单位:大连光明化工研究院、中国西南油气田成都天然气化工总厂、武汉市鼎立化工有限责任公司、西南化工研究设计院。 本标准主要起草人:孙福楠、刘泽军、付永成、谢国清、周鹏云。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为: ---GB/T14601-1993。 |
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