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硅抛光回收片 现行

Polished reclaimed silicon wafers

标准号:YS/T 985-2014

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基本信息

标准号:YS/T 985-2014
发布时间:2014-10-14
实施时间:2015-04-01
首发日期:
出版单位:中国标准出版社查看详情>
起草人:何良恩、刘丹、许峰、张海英、孙燕、曹孜、王飞尧、楼春兰、徐新华
出版机构:中国标准出版社
标准分类: 半金属与半导体材料综合
ICS分类:半导体材料
起草单位:浙江金瑞泓科技股份有限公司等
归口单位:全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
发布部门:中华人民共和国工业和信息化部
主管部门:全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

标准简介

本标准规定了硅抛光回收片的要求、检验方法、检验规则、标志、包装、运输、储存、质量证明书和订货单(或合同)内容。 本标准适用于用户提供的或来源于第三方的硅回收片(主要包括100mm、125mm、150mm和200mm单面或双面抛光硅片、未抛光硅片或外延硅片)经单面抛光制备的硅抛光片。产品主要用于机械、炉处理、颗粒和光刻中的监控片。

标准摘要

本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准修改采用SEMIM38-0307《硅抛光回收片规范》,本标准与SEMIM38-0307相比存在技术性差异,这些差异涉及的条款已通过在其外侧页边空白位置的垂直单线(|)进行了标识。内容与SEMIM38-0307的主要差别在于:
———仅采用了SEMIM38-0307中关于100mm、125mm、150mm 和200mm 硅抛光回收片的内容,删除了原标准中关于50.8mm、76.2mm 和300mm 直径的硅抛光回收片内容(包括附录1和附录2)。
———将SEMIM38-0307中表1和表2中关于100mm、125mm、150mm 和200mm 硅抛光回收片的规范合并,形成本标准中的表1。
———根据我国标准编写的习惯进行排版,并将技术要求表格提前。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本标准负责起草单位:浙江金瑞泓科技股份有限公司。
本标准参加起草单位:有研半导体材料股份有限公司、杭州海纳半导体有限公司、万向硅峰电子股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司。
本标准主要起草人:何良恩、刘丹、许峰、张海英、孙燕、曹孜、王飞尧、楼春兰、徐新华。

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