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平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
标准号:YS/T 719-2009
基本信息
标准号:YS/T 719-2009
发布时间:2009-12-04
实施时间:2010-06-01
首发日期:
出版单位:中国标准出版社查看详情>
起草人:李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦
出版机构:中国标准出版社
标准分类: 稀有高熔点金属及其化合物
ICS分类:其他有色金属产品
提出单位:全国有色金属标准化技术委员会
起草单位:利达光电股份有限公司
归口单位:全国有色金属标准化技术委员会
发布部门:中华人民共和国工业和信息化部
主管部门:全国有色金属标准化技术委员会
标准简介
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
标准摘要
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。 本标准负责起草单位:利达光电股份有限公司。 本标准主要起草人:李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。 |
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