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掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则现行

Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment

标准号：GB/T 16879-1997

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基本信息

标准号：GB/T 16879-1997

发布时间：1997-06-20

实施时间：1998-03-01

首发日期：1997-06-20

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：

出版机构：中国标准出版社

标准分类：加工专用设备

ICS分类：电子元件综合

起草单位：中国科学院微电子中心

归口单位：全国半导体材料和设备标准化技术委员会

发布部门：国家技术监督局

主管部门：国家标准化管理委员会

标准简介

本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩膜制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。

替代情况

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引用标准

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采标情况

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