硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 即将实施
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
标准号：GB/T 39145-2020
基本信息
标准号：GB/T 39145-2020
发布时间：2020-10-11
实施时间：2021-09-01
首发日期：
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：骆红、潘文宾、赵而敬、孙燕、张海英、徐新华、温子瑛、胡金枝、李素青、马林宝、李俊需
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：金属材料试验
提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
起草单位：南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有限公司、厦门科鑫电子有限公司
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
标准简介
本标准规定了电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）测定硅片表面金属元素含量的方法。本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定，测定范围为108 cm-2～1013cm-2。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。
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