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氮化镓单晶位错密度的测量 阴极荧光显微镜法

Test method for dislocation density of GaN single crystal—Cathodoluminescence spectroscopy
标准号:GB/T 32282-2015
基本信息
标准号:GB/T 32282-2015
发布时间:2015-12-10
实施时间:2016-11-01
首发日期:
出版单位:中国标准出版社查看详情>
起草人:曾雄辉、张燚、董晓鸣、牛牧童、刘争晖、邱永鑫、王建峰、徐科
出版机构:中国标准出版社
标准分类: 金属物理性能试验方法
ICS分类:金属材料试验
提出单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)
起草单位:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门:国家标准化管理委员会
标准简介
本标准规定了用阴极荧光显微镜法测试氮化镓单晶位错密度的方法。本标准适用于位错密度在1×103 个/cm2~5×108 个/cm2 之间的氮化镓单晶中位错密度的测试。
标准摘要
本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。 本标准起草单位:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司。 本标准主要起草人:曾雄辉、张燚、董晓鸣、牛牧童、刘争晖、邱永鑫、王建峰、徐科。 |
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