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硅多晶真空区熔基硼检验方法

Polycrystalline silicon—Examination method—Vacuum zone-melting on boron
标准号:GB/T 4060-2007
基本信息
标准号:GB/T 4060-2007
发布时间:2007-12-18
实施时间:2008-02-01
首发日期:1983-12-20
出版单位:中国标准出版社查看详情>
起草人:罗莉萍、梁洪、覃锐兵、王炎、王向东
作废日期:2019-06-01
出版机构:中国标准出版社
标准分类: 半金属及半导体材料分析方法
ICS分类:金属材料试验综合
提出单位:中国有色金属工业协会
起草单位:峨眉半导体材料厂
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门:中国有色金属工业协会
标准简介
本标准适用于多晶硅沉积在硅芯上生长的多晶硅棒基硼的试验。
标准摘要
本标准是对国家标准GB/T4060-1983《硅多晶真空区熔基硼检验方法》的修订。 本标准与GB/T4060-1983相比,主要变动如下: ---检测杂质浓度范围扩大为0.002×10-9~100×10-9; ---增加了规范性引用文件、术语、允许差、计算; ---将原标准中的第5章检验条件修订为干扰因素; ---将原标准中的取样位置修订为距多晶硅棒表面不低于5mm,距多晶硅棒底部不低于50mm; ---将原标准中的试样尺寸范围修订为直径15mm~20mm,长度为180mm。 本标准自实施之日起,同时代替GB/T4060-1983。 本标准由中国有色金属工业协会提出。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。 本标准起草单位:峨眉半导体材料厂。 本标准主要起草人:罗莉萍、梁洪、覃锐兵、王炎、王向东。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为: ---GB/T4060-1983。 |
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