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表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度现行

Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

标准号：GB/T 20176-2006

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基本信息

标准号：GB/T 20176-2006

发布时间：2006-03-27

实施时间：2006-11-01

首发日期：2006-03-27

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：查良镇、陈旭、王光普、黄雁华、黄天斌、刘林、葛欣、桂东

出版机构：中国标准出版社

标准分类：电子光学与其他物理光学仪器

ICS分类：化学分析

提出单位：全国微束分析标准化技术委员会

起草单位：清华大学电子工程系

归口单位：全国微束分析标准化技术委员会

发布部门：国家标准化管理委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

标准简介

本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。

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表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 现行