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硅片参考面结晶学取向X射线测量方法已作废

Method for measuring crystallographic orientation of flats on single crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques

标准号：GB/T 13388-1992

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基本信息

标准号：GB/T 13388-1992

发布时间：1992-02-19

实施时间：1992-10-01

首发日期：1992-02-19

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：

作废日期：2010-06-01

出版机构：中国标准出版社

标准分类：金属物理性能试验方法

ICS分类： 29.040.30

起草单位：北京有色金属研究总院

归口单位：全国半导体材料和设备标准化技术委员会

发布部门：国家技术监督局

主管部门：国家标准化管理委员会

标准简介

本标准规定了用Ｘ射线技术测量硅片参考面结晶学取向的方法。本标准适用于硅片参考面结晶学取向与参考面规定取向之间角度偏差的测量。硅片直径为50～125mm，参考面长度为10～50mm。本标准不适用于硅片规定取向在与参考面和硅片表面相垂直的平面内的投影与硅片表面法线之间夹角不小于3°的硅片的测量。

替代情况

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