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氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法
氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法 现行
Test method for full width at half maximum of double crystal X-ray rocking curve of GaN single crystal substrate
标准号：GB/T 32188-2015
基本信息
标准号：GB/T 32188-2015
发布时间：2015-12-10
实施时间：2016-11-01
首发日期：
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：邱 永 鑫、任 国 强、刘 争 晖、曾 雄 辉、王 建 峰、陈 小 龙、王 文 军、郑 红 军、徐 科、赵松彬
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 金属物理性能试验方法
ICS分类：金属材料试验
提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分(SAC/TC203/SC2)
起草单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司、中国科学院物理研究所、北京天科合达蓝光半导体有限公司、丹东新东方晶体仪器有限公司
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分(SAC/TC203/SC2)
发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
标准简介
本标准规定了利用双晶 X射线衍射仪测试氮化镓单晶衬底片摇摆曲线半高宽的方法。本标准适用于化学气相沉积及其他方法生长制备的氮化镓单晶衬底片。
标准摘要
|
本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。 本标准起草单位:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司、中国科学院物理研究所、北京天科合达蓝光半导体有限公司、丹东新东方晶体仪器有限公司。 本标准主要起 草 人:邱 永 鑫、任 国 强、刘 争 晖、曾 雄 辉、王 建 峰、陈 小 龙、王 文 军、郑 红 军、徐 科、赵松彬。 |
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