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硅抛光片表面颗粒测试方法已作废

Test method of particles on silicon wafer surfaces

标准号：GB/T 19921-2005

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基本信息

标准号：GB/T 19921-2005

发布时间：2005-09-19

实施时间：2006-04-01

首发日期：2005-09-19

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：孙燕、卢立延、董慧燕、刘红艳、翟富义

作废日期：2019-07-01

出版机构：中国标准出版社

标准分类：半金属及半导体材料分析方法

ICS分类：金属材料试验综合

提出单位：中国有色金属工业协会

起草单位：北京有色金属研究总院

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会

发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

主管部门：中国有色金属工业协会

标准简介

本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。本标准适用于硅抛光片，也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片(如化合物抛光片)。本标准也适用于观测硅抛光片表面的划痕、桔皮、凹坑、波纹等缺陷，但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能，并与检测时的初始设置有关。

替代情况

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引用标准

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采标情况

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