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离子注入机通用规范现行

General specification of ion implantation equipment

标准号：GB/T 15862-2012

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基本信息

标准号：GB/T 15862-2012

发布时间：2012-11-05

实施时间：2013-02-15

首发日期：1995-12-22

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：郭健辉、彭立波、罗宏洋

出版机构：中国标准出版社

标准分类：加工专用设备

ICS分类： 31-550

提出单位：中华人民共和国工业和信息化部

起草单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所

归口单位：中国电子技术标准化研究所

发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

主管部门：中国电子技术标准化研究所

标准简介

本标准规定了离子注入机的术语、产品分类、技术要求、试验、检验规则和标志、包装、运输、贮存。本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机。其他离子注入机亦可参照使用。

标准摘要

本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准代替GB/T15862—1995《离子注入机通用技术条件》。
本标准与GB/T15862—1995相比主要变化如下:
———GBn193—1983由GB/T13384—1992代替;
———增加术语“注入角度”(见3.6)、“最大晶片传输效率”(见3.7),并在性能指标及测试方法中做相应要求(见6.4.6);
———环境温度调整为23℃±2℃;相对湿度规定范围30%~50%(见5.1.3);
———安全要求中增加“警示标识”的条款(见6.3.1);
———去掉表3、表4;
———均匀性测量增加了热波探针法测量条件和方法(见6.4.4.1b));
———重复性测量增加了批间重复性测量方法(见6.4.5.2);
———检验规则去掉例行检验项。
本标准由中华人民共和国工业和信息化部提出。
本标准由中国电子技术标准化研究所归口。
本标准起草单位:中国电子科技集团公司第四十八研究所。
本标准主要起草人:郭健辉、彭立波、罗宏洋。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T15862—1995。

替代情况

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采标情况

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