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电子工业用气体六氟化硫现行

Gases for electronic industry—Sulphur hexaflouride

标准号：GB/T 18867-2014

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基本信息

标准号：GB/T 18867-2014

发布时间：2014-12-22

实施时间：2015-07-01

首发日期：

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：黄晓磊、牛学坤、赖明贵、傅涛、刘长庆、任清贵、史淑慧、方正、廖恒易、李晓明、曲庆、杨任、常侠、杨遂平、邓建平、方华、周鹏云

出版机构：中国标准出版社

标准分类：工业气体与化学气体

ICS分类：工业气体

提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)

起草单位：黎明化工研究设计院有限责任公司、成都科美特氟业塑胶有限公司、青海信禾高精化工有限公司、佛山市华特气体有限公司、四川众力氟业有限责任公司等

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)

发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

标准简介

本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫。该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。分子式:SF6。相对分子质量:146.0564192(按2007年国际相对原子质量计算)。

标准摘要

本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。
本标准代替 GB/T18867—2002《电子工业用气体六氟化硫》。与 GB/T18867—2002相比,除编辑性修改外主要技术变化如下:
———修改了范围(见第1章,2002年版的第1章);
———修改了规范性引用文件(见第2章,2002年版的第2章);
———修改了技术指标(见第3章,2002年版的第3章);
———修改了抽样、判定和复验(见4.1,2002年版的第5章);
———修改了氧+氩、氮、四氟化碳、二氧化碳含量的测定方法(见4.3,2002年版的4.2、4.3);
———删除了六氟乙烷、八氟丙烷含量的测定方法(见2002年版的4.4);
———增加了一氧化碳和甲烷含量的测定方法(见4.3);
———修改了水分含量的测定方法(见4.4,2002年版的4.5);
———修改了标志、包装、贮运及安全(见第5章,2002年版的第6章)。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本标准起草单位:黎明化工研究设计院有限责任公司、成都科美特氟业塑胶有限公司、青海信禾高精化工有限公司、佛山市华特气体有限公司、四川众力氟业有限责任公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、大连大特气体有限公司、四川中测标物科技有限公司、上海仪盟电子科技有限公司、光明化工研究设计院、上海基量标准气体有限公司、西南化工研究设计院有限公司、核工业理化工程研究院华核新技术开发公司。
本标准主要起草人:黄晓磊、牛学坤、赖明贵、傅涛、刘长庆、任清贵、史淑慧、方正、廖恒易、李晓明、曲庆、杨任、常侠、杨遂平、邓建平、方华、周鹏云。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T18867—2002。

替代情况

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