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硅多晶气氛区熔基磷检验方法已作废

Polycrystalline silicon—Examination method—Zone-melting on phosphorus under controlled atmosphere

标准号：GB/T 4059-2007

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基本信息

标准号：GB/T 4059-2007

发布时间：2007-12-18

实施时间：2008-02-01

首发日期：1983-12-20

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：罗莉萍、梁洪、覃锐兵、王炎、王向东

作废日期：2019-11-01

出版机构：中国标准出版社

标准分类：半金属及半导体材料分析方法

ICS分类：金属材料试验综合

提出单位：中国有色金属工业协会

起草单位：蛾眉半导体材料厂

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

主管部门：中国有色金属工业协会

标准简介

本标准适用于多晶硅沉积在硅芯上生长的多晶硅棒基磷的检验。

标准摘要

本标准是对GB/T4059-1983《硅多晶气氛区熔基磷检验方法》的修订。本标准修改采用了ASTM F1723-1996《用悬浮区熔法晶体生长和光谱学方法评价多晶硅棒的标准》。
本标准与ASTM F17231996的一致性程度是修改采用,其差异如下:
---删去了ASTM F17231996第9章危害,因此,使用本标准时应建立相应的安全操作规范;
---删去了ASTMF17231996第5章意义和用途、第10章10.2.3条垂直取芯、第15章关键词。
本标准与原标准相比,主要变化如下:
---检测杂质浓度范围扩大为0.002ppba~100ppba;
---采用ASTM F172396规定的施主杂质测量范围替代原GB/T4059-1983的测量范围;
---依据ASTM F172396增加了用低温红外光谱和荧光光谱分析法测量样品中的磷杂质含量的方法;
---增加了规范性引用文件、术语、允许差、计算;
---删去了原标准中的附录A;
---将原标准中的第5章检验条件修订为干扰因素;
---将原标准中的取样位置修订为距多晶硅棒表面不低于5mm,距多晶硅棒底部不低于50mm;
---将原标准中的试样尺寸范围修订为直径15mm~20mm、长度为180mm;
---将原标准中的检验结果尺寸修订为10mm~15mm。
本标准自实施之日起,同时代替GB/T4059-1983。
本标准由中国有色金属工业协会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
本标准起草单位:峨眉半导体材料厂。
本标准主要起草人:罗莉萍、梁洪、覃锐兵、王炎、王向东。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
---GB/T4059-1983。

替代情况

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采标情况

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