工业硅化学分析方法 第5部分：杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法 现行
Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 5:Determination of impurity contents—X-ray fluorescence method
标准号：GB/T 14849.5-2014
基本信息
标准号：GB/T 14849.5-2014
发布时间：2014-12-05
实施时间：2015-05-01
首发日期：
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：刘英波、赵德平、杨海岸、周杰、杨毅、张爱玲、胡智弢、张晓平、刘汉士、刘维理、马启坤、唐飞、白万里、王宏磊、常智杰、聂恒声、金波、王云舟
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 轻金属及其合金分析方法
ICS分类：铝和铝合金
起草单位：昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司山东分公司、云南永昌硅业股份有限公司
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)
发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门：中国有色金属工业协会
标准简介
GB/T14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、镍、钛、铜、磷、镁、铬、钒、钴含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、镍、钛、铜、磷、镁、铬、钒、钴含量的测定,测定范围见表1。表 1元素 质量分数/% 元素 质量分数/%铁 0.020~1.500 铜 0.001~0.050铝 0.050~1.000 磷 0.001~0.050钙 0.010~1.000 镁 0.001~0.050锰 0.0050~0.1000 铬 0.001~0.050镍 0.0010~0.1000 钒 0.0005~0.0500钛 0.0050~0.1000 钴 0.0005~0.0500
标准摘要
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GB/T14849《工业硅化学分析方法》分为9个部分: ———第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法; ———第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法; ———第3部分:钙含量的测定 火焰原子吸收光谱法、偶氮氯膦Ⅰ分光光度法; ———第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱; ———第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法; ———第6部分:碳含量的测定 红外吸收法; ———第7部分:磷含量的测定 钼蓝分光光度法; ———第8部分:铜含量的测定 PADAP分光光度法; ———第9部分:钛含量的测定 二安替比林甲烷分光光度法。 本部分为 GB/T14849的第5部分。 本部分按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本部分代替 GB/T14849.5—2010《工业硅化学分析方法 第5部分:元素含量的测定 X 射线荧光光谱法》。 本部分与 GB/T14849.5—2010相比,主要有如下变动: ———增加了规范性引用文件; ———增加了锰、镍、钛、铜、磷、镁、铬、钒、钴的检测; ———样品应破碎通过0.074mm 筛,改为应能通过0.149mm 标准筛; ———将粘结剂硼酸改为淀粉或硼酸; ———将试料中压片压力20kN,保压时间20s,改为30t压力下保压30s; ———补充了重复性限及再现性限,增加了试验报告。 本部分由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。 本部分负责起草单位:昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司山东分公司、云南永昌硅业股份有限公司。 本部分参加起草单位:中国铝业股份有限公司郑州研究院、通标标准技术服务有限公司、包头铝业有限公司、蓝星硅材料有限公司、昆明冶研新材料股份有限公司、云南出入境检验检疫局。 本部分主要起草人:刘英波、赵德平、杨海岸、周杰、杨毅、张爱玲、胡智弢、张晓平、刘汉士、刘维理、马启坤、唐飞、白万里、王宏磊、常智杰、聂恒声、金波、王云舟。 本部分所代替标准的历次版本发布情况为: ———GB/T14849.5—2010。 |
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