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光学制图 现行

Optical drawings

标准号:GB/T 13323-2009

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基本信息

标准号:GB/T 13323-2009
发布时间:2009-11-15
实施时间:2010-02-01
首发日期:1991-12-14
出版单位:中国标准出版社查看详情>
起草人:曾丽珠、章慧贤、冯琼辉、邬子刚、徐德衍、李晞、付晓平
出版机构:中国标准出版社
标准分类: 光学仪器综合
ICS分类:光学设备
提出单位:中国机械工业联合会
起草单位:宁波永新光学股份有限公司、上海理工大学、凤凰光学集团有限公司、江南永新光学有限公司、上海光学精密机械研究所、苏州一光仪器有限公司
归口单位:全国光学和光子学标准化技术委员会(SAC/TC 103)
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门:全国光学和光子学标准化技术委员会(SAC/TC 103)

标准简介

本标准规定了光学制图的一般规定、图样要求及尺寸、公差标注。本标准适用于光学系统、光学部件和光学零件图样的绘制。

标准摘要

本标准对应ISO10110-1:2006《光学和光子学 光学零件和光学系统绘图准备 第1部分:总则》,与ISO10110-1:2006的一致性程度为非等效。
本标准与ISO10110-1:2006的主要差异如下:
---删除了国际标准的序言和前言;
---根据ISO10110-1:2006及我国标准用语习惯对标准范围及符号作了重新编写;
---参考并补充了ISO101108,ISO1011010,ISO1011012相关部分的内容。
本标准代替GB/T13323-1991《光学制图》,本标准与GB/T13323-1991相比主要变化如下:
---修改了标准范围;
---修改了光轴的标注方法;
---将GB/T13323-1991的毛面修改为非抛光面;
---修改了光学零件图样的列表格式及内容;
---修改了光学零件缺陷的公差的标注方法;
---修改了材料的双折射和非均匀性的公差标注方法,并将其技术要求内容放入附录B;
---增加了表面结构的公差的标注方法,并将其内容放入附录C;
---修改了附录A 的示例,并增加了非球面透镜的图样标注方法。
本标准的附录A 是资料性附录,附录B、附录C 是规范性附录。
本标准由中国机械工业联合会提出。
本标准由全国光学和光子学标准化技术委员会(SAC/TC103)归口。
本标准负责起草单位:宁波永新光学股份有限公司、上海理工大学、凤凰光学集团有限公司、江南永新光学有限公司、上海光学精密机械研究所、苏州一光仪器有限公司。
本标准参加起草单位:宁波市教学仪器有限公司、贵阳新天光电科技有限公司、宁波华光精密仪器有限公司、南京东利来光电实业有限公司、浙江舜宇集团股份有限公司、梧州奥卡光学仪器公司、麦克奥迪实业集团有限公司。
本标准主要起草人:曾丽珠、章慧贤、冯琼辉、邬子刚、徐德衍、李晞、付晓平。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
---GB1331-1977;
---GB/T13323-1991。

标准目录

前言Ⅰ
1 范围1
2 规范性引用文件1
3 一般规定1
4 图样要求4
附录A (资料性附录) 光学图样画法及表示示例14
附录B (规范性附录) 材料的应力双折射及非均匀性23
附录C (规范性附录) 表面结构的公差25
参考文献27

替代情况

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引用标准

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本标准相关公告

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采标情况

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