掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 现行
Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems
标准号：GB/T 17866-1999
基本信息
标准号：GB/T 17866-1999
发布时间：1999-09-01
实施时间：2000-06-01
首发日期：1999-09-13
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 半导体集成电路
ICS分类：集成电路、微电子学
起草单位：中国科学院微电子中心
归口单位：全国半导体材料和设备标准化技术委员会
发布部门：国家质量技术监督局
主管部门：国家标准化管理委员会
标准简介
本标准的目的是制定一套可用于评估掩模缺陷检查系统灵敏度的测试掩模。这套测试掩模包括：含特制图形缺陷的测试芯片，以及不含特制图形缺陷的参考测试芯片。由于测试芯片是由各种单集合而成，所以在本标准中，测试芯片是用单图形、单图形中的特制缺陷、以及单的布局来定义的。此外，测试掩模是通过规定测试芯片的排列来定义的。本标准还讲述这套掩模的用法。
推荐检测机构
申请入驻
暂未检测到相关机构，邀您申请入驻~
推荐认证机构
申请入驻
暂未检测到相关机构，邀您申请入驻~
推荐培训机构
申请入驻
暂未检测到相关机构，邀您申请入驻~
© 2018 北京寰标伟业科技发展有限公司版权所有并保留所有权利。
ICP备案证书号：京ICP备17031081号-1 客服电话：010-62050868
