表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法 现行
Surface chemical analysis—Depth profiling—Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
标准号：GB/T 34326-2017
基本信息
标准号：GB/T 34326-2017
发布时间：2017-09-29
实施时间：2018-08-01
首发日期：
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：王海、王梅玲、张艾蕊、宋小平
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 基础标准与通用方法
ICS分类：化学分析
提出单位：全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
起草单位：中国计量科学研究院
归口单位：全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门：全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
标准简介
本标准规定了在俄歇电子能谱（AES）和X射线光电子能谱（XPS）中使用惰性气体离子以保证溅射深度剖析具有好的深度分辨率以及最佳表面清洁效果而采取的离子束对准方法。这些方法分为两类：一类通过法拉第杯测量离子束流，另一类通过成像方法。法拉第杯方法也规定了离子束束流密度和束流分布的测量。这些方法不包括深度分辨率的优化。 这些方法均适用于束斑直径小于1 mm的离子枪。
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