工业镓化学分析方法 杂质素的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 现行
Chemical analysis emthods of gallium for industrial use--Determination of impurity elements--Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
标准号：YS/T 666-2008
基本信息
标准号：YS/T 666-2008
发布时间：2008-03-12
实施时间：2008-09-01
首发日期：
出版单位：中国标准出版社查看详情>
起草人：梁倩、王书勤、王晓雯、张予秋、张新宇
出版机构：中国标准出版社
标准分类： 轻金属及其合金分析方法
ICS分类：其他有色金属及其合金
提出单位：全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：中国铝业股份有限公司河南分公司;中国有色金属工业标准计量质量研究所
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
发布部门：国家发展和改革委员会
标准简介
本标准规定了工业镓中硅、钠、钾、镁、钙、铝含量的测定方法。本标准适用于工业镓[99.9%≤ω(%)≤99.995%]中硅、钠、钾、镁、钙、铝含量的测定。
标准摘要
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本标准附录A 为资料性附录。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。 本标准由中国铝业股份有限公司河南分公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所负责起草。 本标准由中国铝业股份有限公司山东分公司、中国铝业股份有限公司贵州分公司参加起草。 本标准主要起草人:梁倩、王书勤、王晓雯、张予秋、张新宇。 |
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