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表面化学分析工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序现行

Surface chemical analysis—Proposed procedure for certifying the retained areic dose in a working reference material produced by ion implantation

标准号：GB/T 34174-2017

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基本信息

标准号：GB/T 34174-2017

发布时间：2017-09-07

实施时间：2018-08-01

首发日期：

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：邱丽美、刘芬、徐鹏、刁玉霞、赵志娟、章小余

出版机构：中国标准出版社

标准分类：基础标准与通用方法

ICS分类：化学分析

提出单位：全国微束分析标准化技术委员会

起草单位：中国科学院化学研究所、中国石化石油化工科学研究院、国家纳米科学中心

归口单位：全国微束分析标准化技术委员会

发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

标准简介

对表面分析用的工作参考物质（WoRM)中离子注入原子序数大于硅的分析物元素，本标准规定了对其驻留面剂量进行定值的程序。WoRM为组成均匀的、标称直径不小于50 mm的抛光（或类似磨面)基片（也称作基片)，并已离子注入一种基片上不存在的某种化学元素的同位素（也称作分析物)，其标称面剂量范围通常为1016 atoms/cm2至1013 atoms/cm2（即半导体技术中最感兴趣的范围)。WoRM晶片中离子注入分析物的面剂量，是通过与二级参考物质（SeRM)硅片中注入相同分析物的驻留面剂量比较而进行定值的。本标准提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同时也有对参考物质要求、比较测量和实际定值的描述。离子注入、离子注入剂量术、波长色散X射线荧光光谱和无法得到SeRM时的无证替代物的补充材料见附录A到附录D。定值过程中产生的不确定度来源和数值见附录E。

替代情况

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引用标准

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