半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 -电感耦合等离子体原子发射光谱法 现行
Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
标准号：JC/T 2133-2012
基本信息
标准号：JC/T 2133-2012
发布时间：2012-12-28
实施时间：2013-06-01
首发日期：
出版单位：建材工业出版社查看详情>
起草人：陈奕睿 等
出版机构：建材工业出版社
标准分类： 解热镇痛、麻醉与中枢神经系统用药
ICS分类：分析化学
起草单位：中国科学院上海硅酸盐研究所
归口单位：全国工业陶瓷标准化技术委员会功能陶瓷分技术委员会
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
标准简介
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶。
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