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热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物现行

Test methods for analyzing organic contaminants on silicon wafer surfaces by thermal desorption gas chromatography

标准号：GB/T 24577-2009

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基本信息

标准号：GB/T 24577-2009

发布时间：2009-10-30

实施时间：2010-06-01

首发日期：2009-10-30

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：王奕、褚连青、李静

出版机构：中国标准出版社

标准分类：半金属与半导体材料综合

ICS分类：半导体材料

提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位：信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

标准简介

本标准规定了硅片表面的有机污染物的定性和定量方法,采用气质联用仪或磷选择检测器或者两者同时采用。

标准摘要

本标准修改采用SEMIMF19821103《热解吸附气相色谱法评估硅片表面有机污染物的方法》。
本标准对SEMIMF19821103格式进行了相应调整。为了方便比较,在资料性附录B中列出了本标准章条和SEMIMF19821103章条对照一览表。并对SEMIMF19821103条款的修改处用垂直单线标识在它们所涉及的条款的页边空白处。
本标准与SEMIMF13890704相比,主要技术差异如下:
---去掉了目的、关键词;
---将实际测试得到的单一试验室的精密度结果代替原标准中的精度和偏差部分,并将原标准中
的精度和偏差部分作为资料性附录A。
本标准的附录A、附录B为资料性附录。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
本标准起草单位:信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。
本标准主要起草人:王奕、褚连青、李静。

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