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硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法现行

Test method for measuring flat length wafers of silicon and other electronic materials

标准号：GB/T 13387-2009

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基本信息

标准号：GB/T 13387-2009

发布时间：2009-10-30

实施时间：2010-06-01

首发日期：1992-02-19

出版单位：中国标准出版社查看详情>

起草人：杜娟、孙燕、卢立延

出版机构：中国标准出版社

标准分类：半金属与半导体材料综合

ICS分类：半导体材料

提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位：有研半导体材料股份有限公司

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

主管部门：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

标准简介

本标准用于标称圆形晶片边缘平直部分长度小于等于65mm 的电学材料。本标准仅对硅片精度进行确认,预期精度不因材料而改变。本标准适用于仲裁测量,当规定的限度要求高于用尺子和肉眼检测能够获得的精度时,本标准也可用于常规验收测量。

标准摘要

本标准修改采用SEMIMF6710705《硅及其他电子材料晶片参考面长度测试方法》。
本标准与SEMIMF6710705相比主要有如下变化:
---标准编写格式按GB/T1.1要求进行编写;
---增加了前言内容。
本标准代替GB/T13387-1992《电子材料晶片参考面长度测试方法》。
本标准与GB/T13387-1992相比主要有如下变化:
---细化了测量范围的内容,如该方法中涉及的公英制单位等;
---增加了该方法的局限性内容;
---增加了部分术语,定义了测量中用到的偏移;
---增加了引用标准;
---将原标准中的试样改为抽样章节;
---将校准和测量分为两章分别叙述;
---精密度采用了SEMIMF6710705中多个实验室间的评价,并附有较详细的说明。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
本标准起草单位:有研半导体材料股份有限公司。
本标准主要起草人:杜娟、孙燕、卢立延。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
---GB/T13387-1992。

替代情况

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引用标准

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本标准相关公告

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采标情况

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