
200 mm silicon epitaxial wafer
标准号:GB/T 35310-2017
基本信息
标准号:GB/T 35310-2017
发布时间:2017-12-29
实施时间:2018-07-01
首发日期:
出版单位:中国标准出版社查看详情>
起草人:马林宝、骆红、杨帆、金龙、杨素心
出版机构:中国标准出版社
标准分类: 元素半导体材料
ICS分类:半导体材料
提出单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
起草单位:南京国盛电子有限公司、有色金属技术经济研究院
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
主管部门:国家标准化管理委员会
标准简介
本标准规定了直径200mm硅外延片的术语和定义、产品分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书等。 本标准适用于在N型和P型硅抛光衬底片上外延生长的硅外延片。产品主要用于制作集成电路或半导体器件。
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