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国内标准动态

关于召开2005年度全国半导体设备与材料标准化技术委员会材料分会年会的通知
中色标所字[2005]26号

  • 发表时间:2005/11/07
  • 来源:中国有色金属工业标准计量质量研究所

各标委会委员、会员单位及相关单位:

    现定于2005年12月5日~8日在云南省昆明市召开2005年度全国半导体设备与材料标准化技术委员会材料分会年会,请各标委会委员、会员单位及相关单位出席会议。现将有关事宜通知如下:

一、会议内容和会议日程

    1、2005年12月5日:全天报到。

    2、2005年12月 6日~8日:开会

    会议内容如下:

    ① 国家标准化管理委员会、全国半导体设备与材料标准化技术委员会、全国半导体设备与材料标准化技术委员会材料分会领导讲话。

    ② 全国半导体设备与材料标准化技术委员会材料分会秘书处作2005年度工作总结报告。

    ③ 表彰2005年度半导体材料标准化先进工作者

    ④ 讨论确定“十一五”半导体材料标准规划项目。

    ⑤ 讨论确定2006年度半导体材料国、行标计划项目及推荐起草单位(见附件1)。P会员单位可在此基础上提出新标准项目,并经会议论证后确认。

    ⑥ 预审和讨论一批标准项目(见附件2)。
 
二、会议报到地点及乘车路线

    1、报到地点: 昆明市江滨西路1号 昆明希桥酒店

    2、乘车路线:

    ① 机场: 乘52路公交车到护国桥下车,再转乘4路或83路公交车到红会医院下车即到;乘出租车约20元左右。

    ② 火车站: 乘83路公交车到红会医院下车即到;乘出租车约10元左右。

三、联系人、联系电话

    标委会秘书处:贺东江、向  磊(010)62228796。

    会务联系人:昆明古月会议服务公司  胡文荣 13608864565

四、费用

    会议收取会务费800元/人。住宿统一安排,费用自理

五、协办单位:

    云南会泽东兴集团公司。

六、回执单

    务请各位参会代表将回执填妥,并于2005年11月30日前分别传真或请电话告知至秘书处,以便安排住宿等各项会务工作。否则将不能保证住宿和会议资料。
 
 
                                              二○○五年十一月四日
 
    抄报:国家标准化管理委员会
          国家发展和改革委员会
          中国有色金属工业协会

附件1:秘书处拟推荐国、行标计划项目

序号

标准名称

制定或修订

修订标准号

备注

1

太阳能电池用单晶硅

制定

 

国标

2

太阳能电池用多晶硅

制定

 

3

硅片参考面结晶学取向X射线测量方法

修订

4

电子材料晶片参考面长度测量方法

修订

5

硅片厚度和总厚度变化测试方法

修订

6

半导体材料术语

修订

7

使用全反射X光荧光光谱测量硅片表面金属玷污的测试方法

制定

 

8

半导体衬垫材料的亚表面损伤偏振反射差分谱(RDS)测试方法

制定

 

9

硅片直径测量方法

修订

整合

10

硅片翘曲度非接触式测试方法

修订

11

硅片弯曲度测试方法

修订

12

硅抛光片表面质量目测检验方法

修订

13

硅片平整度、厚度及厚度变化测试 自动非接触扫描法

制定

 

14

非本征半导体材料导电类型测试方法

修订

15

硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

修订

16

硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法

修订

17

硅晶中间隙氧含量径向变化测量方法

修订

18

高纯锑

修订

19

硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法

修订

20

用稳态表面光电压法测定硅中少数载流子扩散长度的标准方法(SPV

制定

 

行标

21

锗富集物

修订

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

附件2:预审和讨论项目

序号

标准名称

制定或修订

修订标准号

起草单位

1

高纯二氧化锗化学分析方法 硫氰酸汞分光光度法测定氯量

修订

国家有色金属及电子材料分析测试中心

2

高纯二氧化锗化学分析方法 钼蓝分光光度法测定硅量

修订

国家有色金属及电子材料分析测试中心

3

高纯二氧化锗化学分析方法 石磨炉原子吸收光谱法测定砷量

修订

国家有色金属及电子材料分析测试中心

4

高纯二氧化锗化学分析方法 ICP-MS法测定镁、铅、镍、铝、铜、铟和锌量

修订

国家有色金属及电子材料分析测试中心

5

高纯二氧化锗化学分析方法 ICP-AEC原子吸收法测定钙量

修订

国家有色金属及电子材料分析测试中心

6

高纯二氧化锗化学分析方法 石磨炉原子吸收光谱法测定铁量

修订

国家有色金属及电子材料分析测试中心

7

高纯四氯化锗

修订

北京有色金属研究总院

8

区熔锗锭电阻率测试方法

制定

-

云南会泽东兴集团实业有限公司

9

半导体材料术语

修订

有色标准所、北京有色院、浙大海纳、上海贝岭、电子55所、中科院半导体所、洛阳单晶硅、峨眉半导体、万向硅峰、洛阳中硅、南京锗厂、东兴集团公司、宁波立立、西安骊晶、电子13所、广州半导体所等

    回 执 单

     (请务必于20051130前传真至秘书处)

     秘书处传真:(01062228796

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